Российские ученые представили новый источник излучения для EUV-литографии

Ученые из МЭИ разработали экспериментальный источник излучения для EUV-литографии, который использует литий в гелиевом плазменном разряде. Эта инновация позволяет создавать интегральные схемы с более тонким техпроцессом и повышенным быстродействием.