Intel скоро установит второй литографический сканер ASML с High-NA EUV — он будет выпускать 1,4-нм чипы
![Intel скоро установит второй литографический сканер ASML с High-NA EUV — он будет выпускать 1,4-нм чипы](https://3dnews.ru/assets/external/illustrations/2024/08/06/1109042/asml_01.jpg)
Первый литографический сканер ASML с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV) был отгружен для нужд компании Intel ещё в декабре прошлого года, к апрелю завершился его монтаж в исследовательском центре в Орегоне, а на минувшей квартальной конференции глава Intel подтвердил, что компания готовится получить от ASML второй экземпляр такого оборудования. Источник изображения: Intel