Бельгийской Imec удалось за один проход изготовить рекордно малые полупроводниковые структуры

Не только компания Intel активно приобретает у ASML литографические системы с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV). Один из первых сканеров такого класса расположился в совместной с Imec лабораторией в Нидерландах, и недавно последняя смогла изготовить тестовые чипы с рекордно малыми размерами элементов за один проход, доказав эффективность оборудования класса High-NA EUV. Источник изображения: Imec