Новая эра российской микроэлектроники: создан первый со времен СССР отечественный литограф. Сравним его с китайской новинкой (Пильятьски)

Заместитель министра промышленности и торговли России Василий Шпак сообщил, что первый российский литограф уже создан и проходит испытания.

С его помощью можно выпускать большеразмерные чипы с топологией в 350–130 нм. Следующим шагом станет литограф на 90–65 нм.

Первое, что нужно понимать, — это полная утрата Россией компетенций по разработке классических фотолитографов — ключевой технологии производства микроэлектроники.