Китай выпустит сканер для производства чипов без технологий США

Пекин, 7 декабря. Китайская компания Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE) сообщила о планах выпустить оборудование для производства чипов без использования технологий США.

Пекин, 7 декабря. Китайская компания Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE) сообщила о планах выпустить оборудование для производства чипов без использования технологий США.

Сканер для иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолете (DUV), как ожидается, появится на рынке к концу 2021 года. Разрабатывают его с применением технологий и материалов только из КНР и Японии.

Для китайской электронной отрасли создание такого оборудования — большой прорыв. Самая современная установка позволяет производить микросхемы с техпроцессом не менее 90 нанометров. Тогда как SMEE планирует снизить этот показатель до 28 нанометров.

США на прошлой неделе ввели очередные санкции против Китая. На этот раз под них попала компания СEIEC. Ограничительные меры подразумевают запрет на продажу американских товаров и технологий предприятиям в КНР.